お願い
本研究室に新設された装置の維持は、利用されている皆様の使用料で成り立っています。何時も最良の状態かつ安い使用料金でご使用頂くためには、以下の点に関して皆様のご協力が不可欠です。
１）本研究室の装置を使用して得られた結果を論文に投稿や学会発表などで使用する場合、その旨を論文謝辞等にご記載下さるようお願い致します。
・XPS・AES（マテリアル先端リサーチインフラ事業支援装置）での成果について
ARIM事業への謝辞の表記につきましては
和文「本研究（の一部）は北海道大学 全学共同利用施設 光電子分光分析研究室において文部科学省 マテリアル先端リサーチインフラ(ARIM)事業（課題番号 JPMXP12**HK****）を通じた技術的支援を受けて実施されました。」
英文「(A part of) this work was conducted at Laboratory of XPS analysis, Joint-use facilities, Hokkaido university, supported by “Advanced Research Infrastructure for Materials and Nanotechnology in Japan (ARIM)” of the Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology (MEXT). Proposal Number JPMXP12**HK****.」
・SEM・CP・LSCM・AFMでの成果について
施設装置利用への謝辞の表記につきましては
和文「本研究（の一部）は北海道大学 全学共同利用施設 光電子分光分析研究室の共用装置を利用して実施しました。」
英文「(A part of) this work was conducted at Laboratory of XPS analysis, Joint-use facilities, Hokkaido university.」
という形でご記載をご協力頂きますようお願い致します。
２）本研究室の装置を利用頂いて得られた結果が論文などの業績になりましたら、施設スタッフまでご連絡下さい。（ホームページにて公開させて頂きます。）
連絡先：suzuki-k＾eng.hokudai.ac.jp（＾を＠に変更）
利用者の皆様の論文・学会発表について掲載しております。