いつもご利用頂きありがとうございます。
XPSのマニュアルが更新になりました。装置利用するユーザーの方は確認してください。
主な変更点については以下の通りです。
・アルゴンイオンガンCh1番のエッチングレートの変更
加速電圧３ｋV、２５ｍAの条件で約8.0nm/minute（SiO2酸化膜で）
アルゴンイオンガンCh2、3、4番の追加
Ch2：加速電圧２ｋV、２５ｍAの条件で約5.5nm/minute(SiO2)
Ch3：加速電圧１ｋV、２５ｍAの条件で約2.0nm/minute(SiO2)
Ch4:加速電圧３ｋV、２５ｍA、ステージチルト-10度の状態で使用可能。エッチングレートはCh1と 同様。主にモノクロX線での測定の際に使用出来る。ただし照射時に分光結晶の扉を閉める必要がある(monochrome→baking)
・試料導入の際の真空度ルール
真空度について厳密なルールを設けました。分析室に試料を導入した際、分析室の真空度が5.0×10-6Paよりも劣化している場合は即座に試料を導入室に回収して、さらに真空を引くようにしてから再度導入を試してください。そのまま分析室に放置してあると装置に大変負担がかかります。また分析可能な真空度を10.0×10-7Pa以下と決めました。その真空度に到達するまで分析室で十分に真空を引いて下さい。分析中に真空度が劣化する事もありますので、こまめに真空度は確認するようお願い致します。
以上2点が主な変更点です。
研究室単位でも各ユーザーの方にご周知くださいますようお願い致します。