Repair of XPS of Ar + ion gun has been completed.
As usual, it is possible that contamination removal and depth profile by Ar+ ion etching
With the maintenance of ion gun, there is a change in the XPS settings. Please check it.
・Changing the angle aperture and the field aperture values for setting the measurement area 1mmφ. Each new values are 34 and 14 from 32 and 12.
・The etching rate of Ar+ ion gun is changed in each channel.
Ch1: 10.0nm / min
Ch2: 5.6nm / min
Ch3: 1.5nm / min
Ch4 (Tilt-10 ° at the time): 12.0nm / min
Please check the latest XPS measurement simple manual.
X線光電子分光装置(XPS)簡易マニュアル測定編＿20150724(sorry, only japanese version)
XPSのAr+イオンガンの修理が完了しました。
従来通り、イオンガンを利用したAr+イオンエッチングによるコンタミ除去やデプスプロファイルが可能です。
イオンガンのメンテナンスに伴い、XPSの設定に変更点があります。ご確認下さい。
・測定領域1mmΦ設定時の角度絞り＆視野絞りの値がそれぞれ32、12から34、14に変更
・Ar+イオンガンのエッチングレートが各チャンネルで変更
Ch1: 10.0nm/min
Ch2: 5.6nm/min
Ch3: 1.5nm/min
Ch4(Tilt-10°時): 12.0nm/min
最新版の装置マニュアルにも記載があるのでご確認下さい。
X線光電子分光装置(XPS)簡易マニュアル測定編＿20150724